| 专利名称： | 纳米-纳米型Al2O3基复相陶瓷的制备方法 |
| 公开（告）号： | CN100422108 |
| 公开（公告）日： | 2008-10-01 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200610022610.7 |
| 申请日： | 2006-12-25 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 西南科技大学 |
| (申请)专利权（人）： | 滕元成;孙致平;杨滨维;鲁伟员 |
| 内容： | 一种纳米-纳米型Al2O3基复相陶瓷的制备方法，其特征是包括：配料球磨、成型、坯体热处理、坯体组装、高压烧结等步骤；所述配料是按纳米Al2O3粉50Vol.％-95Vol.％、纳米SiC、TiC、Si3N4、AlN、BN、TiN 或ZrB2粉5Vol.％-50Vol.％的体积百分比例分别取量配料。本发明采用高压、低温、快速、无气氛控制的烧结技术，陶瓷烧结温度低，烧结时间短，无需气氛控制；制备的纳米-纳米型Al2O3基复相陶瓷晶粒尺寸分布均匀、晶粒在纳米尺寸范围(＜100nm)内，陶瓷的密度较高，接近理论密度，产品性能优良，可用作严酷工况条件下的结构件材料，如陶瓷刀具、耐磨耐蚀器件、高温器皿等。 |
发布日期：2008-11-19 15:05:00