| 专利名称： | 低温快速烧成高频低损耗玻璃陶瓷及其制备方法 |
| 公开（告）号： | CN101298368 |
| 公开（公告）日： | 2008-11-05 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200810124200.2 |
| 申请日： | 2008-06-17 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 南京工业大学 |
| (申请)专利权（人）： | 王庭慰;邵海彬;张其土 |
| 内容： | 本发明涉及一种低温快速烧成高频低损耗玻璃陶瓷及其制备方法，该玻璃陶瓷由硅硼、硼硅酸盐玻璃、成核剂和粘结剂烧结而成。用本发明配料，能实现钙硅硼、硼硅酸盐玻璃的低温熔制，玻璃料可在680℃左右烧结，烧结体介电性能优良(εr为6～8，tanδ＜0.0005 25MHz)。 |
发布日期：2008-11-28 15:02:00