| 专利名称： | 一种用于等静压成型陶瓷坯体的施釉工艺方法 |
| 公开（告）号： | CN101318843 |
| 公开（公告）日： | 2008-12-10 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200810107108.5 |
| 申请日： | 2008-07-11 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 景德镇陶瓷学院 |
| (申请)专利权（人）： | 江伟辉;谭训彦;包镇红;顾幸勇;刘健敏;苗立峰 |
| 内容： | 本发明介绍了一种用于等静压成型陶瓷坯体的施釉工艺方法。其过程为：首先在经900℃～1000℃素烧的陶瓷坯体上浸渍一层高分子聚合物溶液，干燥后坯体表面便形成一层多孔高分子聚合物微孔薄膜，它能起到筛网的作用，可以阻止釉浆中的固体颗粒进入到坯体孔隙中，而又不会影响坯体的吸浆性能。然后，再在坯体上施一层底釉和面釉，经高温烧成后就可得到光滑平整的釉面。本发明解决了等静压成型陶瓷产品极易产生釉面针孔缺陷的难题。 |
发布日期：2009-01-04 15:16:00