| 专利名称： | 表面具有部分抛光和凹凸堆积纹理的陶瓷砖制造工艺 |
| 公开（告）号： | CN100443436 |
| 公开（公告）日： | 2008-12-17 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200610166853.8 |
| 申请日： | 2006-12-05 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 罗杰华;骆建民 |
| (申请)专利权（人）： | 罗杰华;骆建民;霍建强;何玉方 |
| 内容： | 摘要 本发明涉及表面具有部分抛光和凹凸堆积纹理的陶瓷砖制造工艺，在传统工艺的基础上进行创新，砖坯施底釉或印花釉后，在其表面再施一层煅烧后能全部挥发掉且不留下任何颜色的粘结剂；在粘结剂表面均匀布施一层20 -160目的干釉粒；将表面粘附有干釉粒的砖坯放入辊道窑中经1100～1250 ℃的高温煅烧，直至干釉粒局部熔融，形成高低不平、凹凸均匀的珠粒状玻化釉层；冷却后，对砖坯上的珠粒状玻化釉层的凸顶部分进行原有凸顶高度 1/3～1/2的磨削抛光，得到的陶瓷砖成品既保留了传统印花仿古砖花色丰富的优点，又克服了其外观缺乏层次及呆板的缺点，同时拥有抛光砖的光泽感，还具有优异的防滑、防污、耐磨性能，使陶瓷砖具有更高的装饰档次。 |
发布日期：2009-01-07 09:20:00