| 专利名称： | 高纯负离子远红外多功能陶瓷釉料添加剂的制作工艺 |
| 公开（告）号： | CN101328082 |
| 公开（公告）日： | 2008-12-24 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200810016474.X |
| 申请日： | 2008-06-06 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 牛崇光 |
| (申请)专利权（人）： | 牛崇光;牛 振 |
| 内容： | 高纯负离子远红外多功能陶瓷釉料添加剂的制作工艺，属于陶瓷原料的制备领域。其特征在于按如下工艺步骤进行：将含有崇光石的高纯负离子远红外多功能添加剂放入梭式窑中，在温度为1100℃-1300℃的环境下进行3-5小时高温焙烧改性，降温至常温后取出，最后转换成高纯负离子远红外多功能生态抗菌保健陶瓷釉料添加剂。本发明能使陶瓷釉面光洁度更佳，自洁性能更强，因含有高纯负离子远红外多功能添加剂，可使陶瓷表面永久释放负离子，祛除室内苯、甲醛、氨气、TDI或有机挥发物，以及烟味、臭味等有害气体和异味；本发明能够使各种陶瓷更具多功能性，釉面更加光嫩如玉，身价倍增。 |
发布日期：2009-01-09 10:20:00