| 专利名称： | 高强度低温烧成陶瓷组合物及其制造方法、使用它的层叠电子零件 |
| 公开（告）号： | CN100475738 |
| 公开（公告）日： | 2009-04-08 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200380105063.3 |
| 申请日： | 2003-12-08 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 日立金属株式会社 |
| (申请)专利权（人）： | 福田毅;伊藤博之;山田修 |
| 内容： | 一种高强度低温烧成陶瓷组合物，在组织中具有SrAl2Si2O8结晶和 Al2O3结晶，SrAl2Si2O8结晶由六方晶SrAl2Si2O8单独构成，或由六方晶 SrAl2Si2O8以及单斜晶SrAl2Si2O8构成，在基于Cu-Kα线的X射线衍射测定中，当六方晶SrAl2Si2O8的(101)面的峰值强度为I101，单斜晶SrAl2Si2O8 的(002)面的峰值强度为I002时，由I101/(I101+I002)×100表示的峰值强度比为5％以上。 |
发布日期：2009-05-31 22:21:00