| 专利名称： | 一种金属/陶瓷微叠层材料及其制备方法 |
| 公开（告）号： | CN101413101 |
| 公开（公告）日： | 2009-04-22 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200810209523.1 |
| 申请日： | 2008-11-26 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 哈尔滨工业大学 |
| (申请)专利权（人）： | 梁 军;史国栋;陈贵清 |
| 内容： | 本发明提供一种金属/陶瓷微叠层材料及其制备方法。采用电子束物理气相沉积技术，通过电子枪交替蒸发金属和陶瓷靶材来制备的。陶瓷层厚度为1μm，金属层厚度为10～35μm。金属层和陶瓷层的体积分数比即厚度即层厚比为10～35。所用的金属靶材为 Ni-20Co-12Cr-4Al(wt％)，陶瓷靶材为含8wt％Y2O3的ZrO2(YSZ)。金属/陶瓷微叠层材料具有大层厚比，因此该材料能在很大程度上保持金属材料的韧性好的特点。同时，叠层结构的存在，限制了金属层中柱状晶的长大，减少了裂纹沿金属晶界扩展的可能性。与单层 EB-PVD金属薄板相比，该微叠层材料中的金属层发生脆性沿晶断裂的几率更小，金属层强度更高。 |
发布日期：2009-06-05 22:15:00