| 专利名称： | 氮化铝或氧化铍的陶瓷覆盖晶片 |
| 公开（告）号： | CN101418436 |
| 公开（公告）日： | 2009-04-29 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200810135599.4 |
| 申请日： | 2008-09-05 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 应用材料股份有限公司 |
| (申请)专利权（人）： | 穆罕默德·M·拉希德 |
| 内容： | 本发明的实施例提供一种通过在向腔室中引入清洁剂之前装载包含氮化铝陶瓷晶片或者氧化铍陶瓷晶片的陶瓷覆盖衬底到基座上，用于在清洁操作期间保护基座的方法和装置。在一个实施例中，提供一种氮化铝陶瓷覆盖衬底，该氮化铝陶瓷覆盖衬底包括氮化铝陶瓷晶片，具有大于160W/m-K的热传导率，从约11英寸到约13英寸范围内的直径的圆形几何形状，从约0.03英寸到约0.060英寸范围内的厚度，以及约0.010英寸或更小的平整度。热传导率可以是约180W/m-K、约190W/m-K或者更大。厚度可以是从约0.035英寸到约0.050英寸的范围内，以及平整度可以是约0.008英寸、约0.006英寸或更小。 |
发布日期：2009-06-09 23:56:00