| 专利名称： | 抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的制备方法 |
| 公开（告）号： | CN100519487 |
| 公开（公告）日： | 2009-07-29 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200610099354.1 |
| 申请日： | 2006-07-17 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 霍镰泉 |
| (申请)专利权（人）： | 肖绍展;向承刚 |
| 内容： | 本发明公开一种在瓷质抛光砖表面上形成基于二氧化硅的复方抗污涂层的方法，首先准备好一种基于硅溶胶的复方硅溶胶液体，而后将所述的复方硅溶胶一边施布到待加工的抛光瓷质抛光砖表面上，一边又同时迫使已施布到瓷砖表面的复方硅溶胶经历磨头的磨抛处理，并在这样的磨抛—碾压展薄—摩擦升温受热过程中，使复方硅溶胶在游离水蒸发的同时，产生与硅酸脱水机理一致的溶胶—凝胶物理化学变化而硬化，从而在瓷质抛光砖表面上形成一种结合牢固、透明、高光泽度的基于二氧化硅的复方防污薄膜；随即再继续使该防污薄膜经历具有既疏水又疏油特性的氟硅有机化合物溶液、溶胶或乳液的抛光处理，进一步增强该表面的防水性、防油性污染能力。 |
发布日期：2009-07-29 21:51:00