| 专利名称： | 陶瓷膜及其制造方法和半导体装置及压电元件 |
| 公开（告）号： | CN100537479 |
| 公开（公告）日： | 2009-09-09 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200410071215.9 |
| 申请日： | 2001-06-14 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 精工爱普生株式会社 |
| (申请)专利权（人）： | 名取荣治;古山晃一;田崎雄三 |
| 内容： | 陶瓷膜的制造方法，包括使原材料体20结晶化而下层陶瓷膜30 的过程，原材料体20，以种类不同的原料混合存在的状态含有，种类不同的原料彼此存在在原料的结晶化中的晶体生长条件和晶体生长机构的至少一方相互不同的关系。按照本发明的制造方法，能够改善陶瓷膜的表面形态。 |
发布日期：2009-09-18 22:00:00