| 专利名称： | 智能化瓷砖真空离子镀膜设备 |
| 公开（告）号： | CN200810015111.4 |
| 公开（公告）日： | 2009-09-09 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200810015111.4 |
| 申请日： | 2008-03-04 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 王桂岳 |
| (申请)专利权（人）： | 王桂岳 |
| 内容： | 本实用新型属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种智能化瓷砖真空离子镀膜设备。一种智能化瓷砖真空离子镀膜设备，包括与真空抽气系统相连的真空室、转件架式多功能样品台、均布于真空室两侧的电弧金属离子源和PLC可编程集中控制器，其特征是转件架式多功能样品台与真空室绝缘，气体离子清洗源的清洗电极位于转件架式多功能样品台上，并与真空室外气体离子清洗电源相连，电弧金属离子源为30个，离子源与镀件间距为150mm。具有镀膜层的质量和效果好，低损耗、体积小，膜-基结合力强的优点。 |
发布日期：2009-09-18 23:13:00