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| 专利名称： | 一种陶瓷隔膜电解槽及其制备方法和应用 |
| 公开（告）号： | CN100585014 |
| 公开（公告）日： | 2010-01-27 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200810024038.7 |
| 申请日： | 2008-04-25 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 宜兴市星光陶瓷研究所 |
| (申请)专利权（人）： | 应建军 |
| 内容： | 本发明公开了一种陶瓷隔膜电解槽，为敞口容器，它的材料包括如下重量份数的组份：氧化铝50～75份，氧化硅30～60份；陶瓷隔膜电解槽的微孔总体积占电解槽总体积的10～40％；微孔孔径0.3～1.5μm。本发明的陶瓷隔膜电解槽成本低、微孔分布均匀、孔径单一，能较好的满足金属离子的渗透，且制备过程简单，易于实现。
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发布日期：2010-01-27 02:07:00