专利名称: 一种陶瓷抛光废料烧制多孔过滤陶瓷砖的方法
公开(告)号: CN101709001A
公开(公告)日: 2010-05-19 00:00:00
申请(专利)号: CN200910193596.0
申请日: 2009-10-31 00:00:00
发明(设计)人: 华南理工大学
(申请)专利权(人): 吴清仁;谢代义;吴启坚
内容:     本发明公开了一种陶瓷抛光废料烧制多孔过滤陶瓷砖的方法。该方法是利用建筑陶瓷抛光废料50~70%,与煅烧氧化铝18~22%、烧滑石0~10%、轻质氧化镁28~35%混合,经过原料处理、粉料制备、压制成型和烧结等工艺而实现的。本发明所制备的多孔过滤陶瓷砖不仅具有环保净化的功能,而且有着较高的断裂模数和良好的过滤性能;既可有效地解决建筑陶瓷抛光废料的处理问题,又可节约天然陶瓷原料;利用陶瓷抛光废料烧制堇青石质多孔过滤陶瓷砖工艺过程简单,成本低,在液体污染处理和精密过滤等领域有着良好的应用前景。

发布日期:2010-05-19 20:56:00

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