| 专利名称： | 新型氧化锆陶瓷坩埚 |
| 公开（告）号： | CN201607118U |
| 公开（公告）日： | 2010-10-13 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN201020105445.3 |
| 申请日： | 2010-01-27 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 临沂临虹无机材料有限公司 |
| (申请)专利权（人）： | 刘京临;刘光庚;陈景善;王代富;刘远;麻厚波 |
| 内容： | 本实用新型公开了一种新型氧化锆陶瓷坩埚，其属于一种功能陶瓷。它解决了现有技术中坩埚在烧结电子元器件时，在升温、降温的过程中容易出现裂纹甚至炸裂的缺陷，其包括底部，底部上设有侧壁，所述侧壁到底部为圆滑过渡的。本实用新型主要用于电子元器件的烧结。
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发布日期：2010-11-24 14:54:00