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| 专利名称： | 可抵抗还原等离子体的含钇陶瓷涂层 |
| 公开（告）号： | CN102084020A |
| 公开（公告）日： | 2011-06-01 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200980106482.6 |
| 申请日： | 2009-02-13 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 应用材料公司 |
| (申请)专利权（人）： | 詹尼弗·Y·孙;贺小明;肯尼思·S·柯林斯;托马斯·格瑞斯;赛恩·撒奇;元洁;徐理;段仁官 |
| 内容： | 在高腐蚀性等离子体环境中进行半导体元件处理，常会出现微粒产生的问题。当上述等离子体为还原等离子体时，此问题更显严重。实验资料显示，在形成一种等离子体喷涂的含钇陶瓷(如氧化钇、Y2O3-ZrO2固溶体、YAG及YF3)时，当用于喷涂陶瓷的粉体进料的平均有效粒径范围介于约22μm至约0.1μm时，可提供一种低孔隙率的涂层，其具有平滑且紧实的表面。这些经喷涂的材料可降低在腐蚀性还原等离子体环境中的微粒产生。
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发布日期：2011-06-22 15:49:00