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| 专利名称： | 从陶瓷基片上去除含有钽沉积层和铝电弧喷涂层的复合涂层的方法 |
| 公开（告）号： | CN1598061B |
| 公开（公告）日： | 2011-05-18 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200410064239.1 |
| 申请日： | 2004-08-19 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 应用材料公司 |
| (申请)专利权（人）： | R·R·布吉斯;I·M·戴维斯 |
| 内容： | 一种从陶瓷基片表面去除金属层的方法，该方法包括将含有金属涂层的陶瓷基片浸没在浓度高达31％盐酸溶液内，浸渍时间要足以至少基本上将金属层从基片上溶解或去除，从酸溶液中取出陶瓷基片，再在淋洗液中淋洗陶瓷基片，并且在预定的温度下进行热处理，处理时间要足以至少减少该陶瓷基片表面上的损伤或缺陷。
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发布日期：2011-06-22 15:10:00