专利名称: 用于形成具有改善的等离子体耐受性的陶瓷涂层的方法和由此形成的陶瓷涂层
公开(告)号: CN106029948A
公开(公告)日: 2016-10-12 14:50:56
申请(专利)号: CN201480075571.X
申请日: 2014-12-04 14:50:39
发明(设计)人: 李文基;金秉基;朴载赫;金大根;李明鲁
(申请)专利权(人): IONES株式会社
内容: 本发明的一个实施方式涉及用于形成具有粒度改善的等离子体耐受性的陶瓷涂层的方法及由此形成的陶瓷涂层。本发明公开了用于形成具有改善的等离子体耐受性的陶瓷涂层的方法及由此形成的陶瓷涂层,该方法包括如下步骤:从粉末供给部分接收具有第一粉末粒度范围的多个陶瓷粉末,并利用输送气体输送该粉末;以及使输送的陶瓷粉末以100至500m/s速度碰撞处理室中的基板以被粉碎而形成涂层,其中多个第一陶瓷颗粒在第一涂层粒度范围内且多个第二陶瓷颗粒在第二涂层粒度范围内,第二涂层粒度范围大于第一涂层粒度范围,其中第一颗粒的第一陶瓷涂层粒度范围为200nm至900nm,且其中第二颗粒的第二陶瓷涂层粒度范围为900nm至10μm。

发布日期:2016-10-21 14:49:53

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