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专利名称: | 陶瓷体上硅衬底的制备方法 |
公开(告)号: | CN107731731A |
公开(公告)日: | 2018-02-23 10:55:31 |
申请(专利)号: | CN201710940454.0 |
申请日: | 2017-10-11 10:55:39 |
发明(设计)人: | 李瑾;冒薇;王丰梅;杨静;赵书平 |
(申请)专利权(人): | 苏州研材微纳科技有限公司 |
内容: | 本发明涉及一种制备方法,尤其是一种陶瓷体上硅衬底的制备方法,属于陶瓷体上硅的技术领域。按照本发明提供的技术方案,所述陶瓷体上硅衬底的制备方法,所述制备方法包括如下步骤:步骤1、提供所需的第一硅衬底以及第二硅衬底,并对所述第一硅衬底、第二硅衬底进行所述清洗;步骤2、在第一硅衬底上均匀涂覆陶瓷埋材层,所述陶瓷埋材层包括聚硅氮烷;步骤3、将第二硅衬底键合在上述第一硅衬底上,第二硅衬底通过陶瓷埋材层与第一硅衬底间隔;步骤4、对上述陶瓷埋材层进行陶瓷化工艺,以得到位于第一硅衬底与第二硅衬底之间的陶瓷体绝缘埋层。本发明能有效制备得到陶瓷体上硅衬底,工艺步骤简单,安全可靠。 |
发布日期:2018-03-30 10:56:04