| 专利名称： | 掺杂材料的方法和掺杂的材料 |
| 公开（告）号： | CN1972880 |
| 公开（公告）日： | 2007-05-30 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | 200580020788.1 |
| 申请日： | 2005-06-23 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | BENEQ有限公司 |
| (申请)专利权（人）： | M·拉亚拉;P·索伊尼宁;L·尼尼斯特;M·普特基宁;J·皮缅诺夫;J·佩伊韦萨利 |
| 内容： | 摘要 本发明涉及掺杂材料的方法，方法的特征为采用原子层沉积(ALD) 方法在材料表面上和/或在其一部分表面上沉积至少一个掺杂剂沉积层或一部分沉积层，和以一定的方式进一步加工由掺杂剂掺杂的材料，使得改变掺杂剂层的初始结构，以获得掺杂的材料的新性能。要掺杂的材料优选是玻璃，陶瓷，聚合物，金属，或由其制备的复合材料，和由掺杂剂掺杂的材料的进一步加工是机械、化学、辐射、或热处理，因此目的是改变掺杂的材料的折射率，吸收能力，电导率和/或热导率，颜色，或机械或化学耐用性。 |
发布日期：2007-07-11 09:02:00