| 专利名称： | 超强低温瓷制造方法 |
| 公开（告）号： | CN1281546 |
| 公开（公告）日： | |
| 申请（专利）号： | CN200410022152.8 |
| 申请日： | |
| 发明（设计）人： | 重庆锦晖陶瓷有限公司 |
| (申请)专利权（人）： | 曹文彪;杨雪梅;金科名 |
| 内容： | 摘要 本发明属于日用陶瓷制造技术领域，涉及坯料和釉料新配方，利用略低于炻瓷的釉烧温度，烧制出高于硬质瓷强度的日用瓷。坯料配方为：二氧化硅53-58％，三氧化二铝32-38％，氧化钙5-10％，氧化镁2-3％，氧化钾2-6％，氧化钠1.5-4％。釉料配方为：二氧化硅58-65％，三氧化二铝15-18％，氧化钙 16-20％，氧化镁3-5％，氧化钠1-3％，氧化锶2-5％，氧化钡1.5-3％，氧化钾 2-5％，氧化锂1.5-3％。本发明降低釉烧温度和时间，提高质量，节约能耗，降低成本。 主权项 |
发布日期：2006-10-28 22:39:00