专利名称: 碳化硅-铬纳米陶瓷镀层的瓦楞辊
公开(告)号: CN200945725
公开(公告)日: 2007-09-12 00:00:00
申请(专利)号: 200620001113.4
申请日: 2006-01-16 00:00:00
发明(设计)人: 王 昊
(申请)专利权(人): 王 昊;王永林
内容:     一种碳化硅-铬纳米陶瓷镀层的瓦楞辊,其特征在于:瓦楞辊基材的工作表面上具有0.08-0.01mm厚的碳化硅-铬纳米陶瓷镀层,碳化硅-铬纳米陶瓷镀层由三层构成;第一层是与瓦楞辊基材牢固结合的离子扩散层,第二层为与第一层结合的底层,最外层为与底层结合的碳化硅-铬纳米陶瓷镀层。本实用新型与原来镀硬铬瓦楞辊相比的优点是耐磨性提高3.7倍,使用寿命提高了3倍以上,成本降低一半。

发布日期:2007-09-12 10:24:00

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