| 专利名称： | 在医用不锈钢上制备钛陶瓷纳米膜的方法 |
| 公开（告）号： | CN1834283 |
| 公开（公告）日： | |
| 申请（专利）号： | 200510016298.6 |
| 申请日： | |
| 发明（设计）人： | 天津师范大学 |
| (申请)专利权（人）： | 赵 杰;李 立 |
| 内容： | 摘要 本发明涉及一种在医用不锈钢上制备钛陶瓷纳米膜的方法。先对医用不锈钢基材进行预处理，沉积前，将抛光清洗好的医用不锈钢放入IBAD设备的水冷可旋转样品台上，抽真空后，先用1keV氮离子束进行溅射清洗15分钟后，再用3 keV、80mA的Ar+离子溅射Ti靶，并在用3keV、80mA的Ar+离子溅射Ti靶的同时，先用4-60keV、束流：2-10mA的高能离子束轰击，作用时间：10-20分钟，再用50-350eV、束流：10-30mA的低能离子束轰击，作用时间为60-180分钟进行辅助沉积，沉积过程中样品台始终保持自转，制备中本底真空度优于1×10-3Pa，工作时氮气分压为8×10-3Pa。本发明方法制备的TiN薄膜，硬度高、耐磨性好、附着力好、抗腐蚀、具有良好的细胞相容性的，可应用于植入人体的硬组织替代材料。 主权项 1.一种在医用不锈钢上制备钛陶瓷纳米膜的方法，步骤为：首先对医用不锈钢基材进行预处理，沉积前，将抛光清洗好的医用不锈钢放入IBAD设备的水冷可旋转样品台上，抽真空后，先用1keV氮离子束进行溅射清洗15分钟后，再用3 keV、80mA的Ar+离子溅射Ti靶，其特征是：在上述步骤中还另外加有一个高能离子束轰击和一个低能离子束轰击的步骤，即在上述用3keV、80mA的Ar+离子溅射Ti靶的同时，先用4-60keV、束流：2-10mA的高能离子束轰击，作用时间： 10-20分钟，再用50-350eV、束流：10-30mA的低能离子束轰击，作用时间为 60-180分钟进行辅助沉积，沉积过程中样品台始终保持自转，制备中本底真空度优于1×10-1Pa，工作时氮气分压为8×10-3Pa。 |
发布日期：2006-10-24 17:50:00