| 专利名称： | 陶瓷制品的清洁方法 |
| 公开（告）号： | CN1284636 |
| 公开（公告）日： | 2006-11-15 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN01812032.6 |
| 申请日： | |
| 发明（设计）人： | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
| (申请)专利权（人）： | A·G·赫尔勒 |
| 内容： | 摘要 本发明揭示了一种用于制备半导体的陶瓷工件例如SiC舟的清洁方法。该方法包括用化学去除剂清洗初始的或用过的陶瓷工件，然后在酸洗过的组件上应用二氧化碳粒子清洁方法。发现本发明的方法可获得表面上金属和微粒污染物含量很低的工件。 主权项 权利要求书 1.一种清洁和后加工包含SiC并具有无机表面的半导体加工用组件的方法，该方法包括如下步骤： a)将所述无机表面与化学反萃取剂接触，该化学反萃取剂选自不包括氢氟酸的试剂，选自气态化学反萃取剂、卤素或卤化物； b)将冻结二氧化碳粒子流喷射到所述无机表面上； 所述的气态化学反萃取剂不包括气态的卤化物反萃取剂。 |
发布日期：2006-11-26 21:34:00