| 专利名称： | 低污染的等离子反应室部件及其制造方法 |
| 公开（告）号： | CN1285758 |
| 公开（公告）日： | 2006-11-22 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN01821426.6 |
| 申请日： | |
| 发明（设计）人： | 兰姆研究公司 |
| (申请)专利权（人）： | 克里斯托弗·C·张;罗伯特·J·西格 |
| 内容： | 摘要 用于等离子处理腔室内的多个部件设置有多个等离子裸露表面，这些表面具有可提高聚合物粘附性的表面粗糙度。这些粗糙表面是通过由等离子将一种涂层材料(32)例如陶瓷或高温聚合物喷涂到部件的表面上形成的。根据本发明，经等离子喷涂后的部件可用于等离子反应器上，其中等离子反应器设置有多个在处理过程中暴露于等离子作用下的表面。合适的部件包括腔壁、腔室内衬(30)、挡环、气体分配板(22)、等离子密封环(14)和内衬支架。通过提高聚合物的粘附性，经等离子喷涂过的部件就可以降低处理腔室内的颗粒污染水平，从而提高产量并减少清洗和/或更换腔室部件所需的停机时间。 主权项 权利要求书 1、一种用于制造等离子蚀刻反应器部件的方法，所述等离子蚀刻反应器部件在使用时具有一个或多个暴露在等离子下的表面，该方法包括：利用等离子将一种陶瓷或聚合物涂层材料喷涂到一个暴露在等离子作用下的部件表面上，从而形成一个具有表面粗糙度值的算术平均值介于150至190微英寸之间的陶瓷或聚合物涂层。 |
发布日期：2006-11-28 21:34:00