| 专利名称： | 等离子体处理装置 |
| 公开（告）号： | CN1882217 |
| 公开（公告）日： | |
| 申请（专利）号： | 200610084697.0 |
| 申请日： | 2006-05-30 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 日本碍子株式会社 |
| (申请)专利权（人）： | 富田泰光;海野丰 |
| 内容： | 摘要 本发明提供在对供电部件供给高频电流时能够减小供电部件的发热量的等离子体处理装置。作为等离子体处理装置的基板加热装置(21)具备：设有高频电极(27)的陶瓷基体(23)、对高频电极(27)供给高频电流的高频电极用供电部件(35)，高频电极用供电部件(35)具有供电主体部和在供电主体部外周面形成的电导率比供电主体部的更高的高电导率金属层。 主权项 |
发布日期：2006-12-24 20:33:00