| 专利名称： | 一种利用原子力显微镜的套刻对准方法及装置 |
| 公开（告）号： | CN1971845 |
| 公开（公告）日： | 2007-05-30 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | 200610164888.8 |
| 申请日： | 2006-12-07 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 中国科学院电工研究所 |
| (申请)专利权（人）： | 李晓娜;韩 立 |
| 内容： | 摘要 一种利用原子力显微镜的套刻对准方法及装置，其方法包括以下步骤：(1)在第一层图形写入的同时写入套刻对准标记；(2)在第二层图形刻写之前对其工作区域扫描成像，根据扫描成像的结果对第二层图形结构的坐标进行修正；(3)以修正后的图形坐标刻写第二层图形结构；(4)多层图形结构的坐标均依据原子力显微镜扫描结果进行修正，从而完成套刻加工。应用上述套刻对准方法的装置，包括以压电陶瓷闭环定位系统作为扫描器的原子力显微镜、光学观测镜、机械调节平台与电压开关电路[8]，电压开关电路[8]控制加工电压。本发明利用原子力显微镜自身的成像功能与压电陶瓷闭环定位系统[5]进行测量与定位，在不引进复杂的高精度光学对准设备的条件下可实现高精度的套刻加工。 |
发布日期：2007-07-11 08:55:00