| 专利名称： | AlN/SiO2纳米多层硬质薄膜 |
| 公开（告）号： | CN1887815 |
| 公开（公告）日： | |
| 申请（专利）号： | 200610029135.6 |
| 申请日： | 2006-07-20 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 上海交通大学 |
| (申请)专利权（人）： | 李戈扬;赵文济;孔 明;戴嘉维 |
| 内容： | 摘要 一种AlN/SiO2纳米多层硬质薄膜，属于陶瓷薄膜领域。本发明由AlN层和SiO2 层交替沉积在金属或陶瓷基底上形成，AlN层的厚度为3～6nm，SiO2层厚为 0.4～1.2nm。本发明AlN/SiO2纳米多层硬质薄膜具有SiO2被晶化并与AlN形成共格外延生长的超晶格柱状晶的结构特征。本发明的AlN/SiO2纳米多层硬质薄膜不但具有优良的高温抗氧化性，而且具有较高的硬度；其硬度高于28GPa。最高硬度可达32GPa。本发明作为高速切削刀具及其它在高温条件下服役耐磨工件的涂层，具有很高的应用价值。 主权项 |
发布日期：2007-01-09 22:00:00