| 专利名称： | 多层膜金属化的靶材 |
| 公开（告）号： | CN1932071 |
| 公开（公告）日： | 2007-03-21 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | 200610096720.8 |
| 申请日： | 2006-10-11 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 苏州大学 |
| (申请)专利权（人）： | 狄国庆 |
| 内容： | 摘要 本发明公开了一种多层膜金属化的靶材，包括非金属材料构成的基材层，其特征在于：在所述基材层的背侧设置有三层薄膜层，每层薄膜层的厚度范围分别为0.05～10微米，其中，中间层中含有不少于10％重量的低熔点金属，所述低熔点金属选自铋、锡、铅、铊、钋、硒中的一种或几种。本发明在陶瓷或玻璃基材层上镀制了三层金属膜，使用时可以保证靶材与金属背板的良好粘合，避免靶材的脱落，特别适合于在磁控溅射真空镀膜中采用直接溅射各种陶瓷或玻璃靶材的工艺。 |
发布日期：2007-05-06 19:45:00