| 专利名称： | 真空卡盘和吸附板 |
| 公开（告）号： | CN1938122 |
| 公开（公告）日： | 2007-03-28 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | 200580009675.1 |
| 申请日： | 2005-03-25 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 揖斐电株式会社 |
| (申请)专利权（人）： | 石川茂治;桐山胜之 |
| 内容： | 摘要 本发明的目的是提供一种可实现被吸附体的均匀研磨等的真空卡盘，本发明的真空卡盘的特征在于，具有用于吸附和保持被吸附体的吸附板，该吸附板构成为使由多孔质陶瓷构成的吸附层和致密质层一体化，并且使上述吸附层位于吸附被吸附体的一侧，上述致密质层通过使金属浸渍到上述多孔质陶瓷中而形成。 |
发布日期：2007-05-06 21:50:00