专利名称: 一种合成Si基一维纳米材料的方法
公开(告)号: CN1312028
公开(公告)日: 2007-04-25 00:00:00
申请(专利)号: CN200510012187.8
申请日: 2005-07-15 00:00:00
发明(设计)人: 清华大学
(申请)专利权(人): 谢志鹏;杨为佑;苗赫濯;安立南
内容: 摘要     一种合成Si基一维纳米材料的方法,属于材料制备技术领域。本发明的方法制备步骤为: (1)低温交联固化:初始原料采用聚硅氮烷,250-280℃保护气氛中交联固化,得到半透明 的非晶态SiCN固体;(2)高能球磨粉碎:将半透明的SiCN固体球磨粉碎,球磨的同时引入 催化剂,所述催化剂为FeCl2、Al、Cu、Ni中的任何一种,所述催化剂的用量为1-5wt%;(3) 高温热解:取少量高能球磨后的混合物装入氧化铝陶瓷坩锅中进行高温热解,在保护气氛中 1250~1700℃热解温度下保温1~4小时,即可得到不同形貌和化学成分的低维纳米材料。合 成工艺简单,可控性强,合成产物纯度高,通过简单控制几个关键工艺参数即可制备出不同 形貌的低维纳米材料如纳米线、纳米带和纳米棒等。 

发布日期:2007-06-03 08:37:00

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