| 专利名称： | 静电吸盘 |
| 公开（告）号： | CN1310303 |
| 公开（公告）日： | 2007-04-11 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200410096922.3 |
| 申请日： | 2004-12-06 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| (申请)专利权（人）： | 西本伸也;中山博之;木村英利 |
| 内容： | 摘要 本发明涉及一种使用静电力吸附晶片W的静电吸盘(16)静电吸盘 (16)具有与晶片W相接触的多个突起部(16C)，并且，由包含平均粒径为 1～2μm的氧化铝结晶颗粒的陶瓷介电体(16A)构成突起部(16C)，同时， 使突起部(16C)的与晶片W接触的接触面形成为依存于粒径的表面粗糙 度Ra 0.2～0.3μm。由此，消除专利文献1中所记述的静电吸盘的由升 降杆使晶片W跳起的顾虑。而且，解决专利文献2中所记述的静电吸 盘的难以对晶片W面内温度均匀地进行控制的问题。 |
发布日期：2007-06-02 21:41:00