| 专利名称： | 等离子体电解氧化制备陶瓷氧化膜的方法及其制品 |
| 公开（告）号： | CN100467676 |
| 公开（公告）日： | 2009-03-11 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN03139649.6 |
| 申请日： | 2003-06-25 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 王振波 |
| (申请)专利权（人）： | 王振波 |
| 内容： | 本发明提供了一种等离子体电解氧化制备陶瓷氧化膜的方法及其制品，该方法是通过使作为阳极的金属基体表面等离子电解氧化，生成具有陶瓷结构的膜层。其中，所用电解质溶液以含有羟基或羧基有机膦酸盐为主盐、含有一种或一种以上的金属络合剂为添加剂、以无机含氧酸盐为成膜剂和以含氟物质为调节剂。采用脉冲电源控制电压为200～400V，频率为5Hz～250Hz，占空比为 10％～95％，电流密度为5～30A·dm-2，电解质溶液温度为10～50℃，pH值为3～7。采用本发明的方法制得的产品其陶瓷膜层均匀性好，与基体结合强度高，硬度高，抗热冲击、电绝缘性及耐蚀性均佳。本发明的方法可适用于各种尺寸、形状、结构的基体工件的表面处理。 |
发布日期：2009-03-18 22:15:00