| 专利名称： | 还原氮化法原位合成镁阿隆/β-赛隆复相陶瓷材料 |
| 公开（告）号： | CN101456740 |
| 公开（公告）日： | 2009-06-17 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200910076060.0 |
| 申请日： | 2009-01-04 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 北京科技大学 |
| (申请)专利权（人）： | 张 梅;岳昌盛;郭 敏;唐续龙;陆 璇;王习东 |
| 内容： | 还原氮化法原位合成镁阿隆/β-赛隆复相陶瓷材料，属于结构陶瓷与耐火材料领域。使用原料的质量百分比为：硅粉，2～30％；铝粉，2～10％；氧化铝，40～ 85％；氧化镁，3～15％；镁阿隆/β-赛隆复相陶瓷材料中镁阿隆的百分含量为40～ 95％，β-赛隆的百分含量为5～60％；采用高温还原氮化合成法一步合成。合成镁阿隆/β-赛隆复相陶瓷材料的制备工艺要求为：高温热处理过程中通入氮气，气氛压力为0.1MPa，温度为1500～1800℃，保温时间为2～8h。本发明以硅、铝为还原剂还原氮化合成镁阿隆/β-赛隆复相陶瓷材料分别具有单相镁阿隆材料或β-赛隆材料的优点，具有强度高、韧性好、抗渣侵蚀性好、抗热震性优的特点。 |
发布日期：2009-06-24 21:35:00