| 专利名称： | 透光性陶瓷及光学部件以及光学装置 |
| 公开（告）号： | CN101489951 |
| 公开（公告）日： | 2009-07-22 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200780022854.8 |
| 申请日： | 2007-05-29 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 株式会社村田制作所 |
| (申请)专利权（人）： | 林刚司;金高祐仁 |
| 内容： | 本发明提供一种阿贝数高、有利于像差补偿，能便于制造的透光性陶瓷。该透光性陶瓷的特征在于，以用通式：Y3AlVOW(满足4.4≤v≤5.4 的条件，w是用于确保电中性的正数)表示的石榴石型化合物为主成分，并且，在所述Y3AlVOW中，Al的一部分或全部被Ga所置换。该透光性陶瓷对于例如单透镜反射式照相机用光学系统这样的高斯型透镜光学系统(20)，适用配置嵌入光圈(28)的透镜(22，25)。 |
发布日期：2009-07-22 22:54:00