专利名称: | 制备用于变阻器的包含金属氧化物的半导体陶瓷的方法 |
公开(告)号: | CN1870185B |
公开(公告)日: | 2010-12-08 00:00:00 |
申请(专利)号: | CN200610006918.2 |
申请日: | 2006-01-24 00:00:00 |
发明(设计)人: | 阿海珐T&D有限公司 |
(申请)专利权(人): | 迈赫达德·哈桑扎德;塞利娜·马查多-巴伊;雷诺·梅斯;拉蒙·普亚内 |
内容: | 摘要 本发明披露了一种制备基于掺杂的氧化锡的半导体陶瓷的方法,该方法是通过将PADO(前体合金直接氧化)型方法用于锡和掺杂金属的合金上,或者通过将PADO型方法用在锡上,而掺杂金属以氧化物形式加到要烧结的粉末中。 主权项 |
发布日期:2010-12-16 14:52:00