| 专利名称： | 用于半导体处理的可更换气体喷嘴 |
| 公开（告）号： | CN2849959 |
| 公开（公告）日： | |
| 申请（专利）号： | 200520004855.8 |
| 申请日： | 2005-02-18 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 应用材料公司 |
| (申请)专利权（人）： | 素提·贡德哈莱卡; |
| 内容： | 摘要 本实用新型公开了一种可更换的气体喷嘴，该气体喷嘴可插入衬底处理室的气体分配器环中并且在室中可以被防护。可更换气体喷嘴具有拥有通道的纵长陶瓷体，所述通道用于将气流导向室中。陶瓷体包括用于与气体分配器环配合的第一外螺纹和用于接纳热防护罩的第二外螺纹。通道具有用于接收来自气体分配器环的气体的入口和用于将气体释放到室中的针孔出口。热防护罩可以被用于防护延伸到室中的喷嘴。热防护罩具有中空构件，所述中空构件被构造来与喷嘴耦合，并且具有足够大的内部尺寸来围绕喷嘴的至少一部分放置。中空构件还具有一延伸部分和热防护罩开口，延伸部分在末梢处从所述喷嘴的出口突出，处理气体从喷嘴出口流动穿过所述热防护罩开口。 主权项 |
发布日期：2006-12-24 22:13:00