| 专利名称： | 在陶瓷釉面上形成自然浮雕的方法及其所使用的陶瓷釉 |
| 公开（告）号： | CN1288104 |
| 公开（公告）日： | |
| 申请（专利）号： | CN200410050968.1 |
| 申请日： | 2004-07-30 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 邱盛水 |
| (申请)专利权（人）： | 邱盛水 |
| 内容： | 摘要 本发明公开一种使陶瓷釉面上形成自然颗粒状凸起从而形成凹凸浮雕效果的简易方法以及在釉烧后能形成自然颗粒状凸起的陶瓷釉。本发明的陶瓷 釉含有以下组分：K2O、Al2O3、SiO2、CaO、MgO、P2O5以及常量杂质和釉烧温度下易分解或挥发成分。使用上述陶瓷釉的方法包含以下步骤：水球磨、施釉形成干燥后厚度为0.4～1毫米的釉层、在1160～1250℃下釉烧，得到施上述陶瓷釉区域出现块状或片状自然浮雕的陶瓷制品，釉面光滑细腻，凸起颗粒之间相互隔离，具有独特的自然美感。本发明可用于制作日用陶瓷、工艺瓷、陶瓷艺术品以及建筑用陶瓷如防滑瓷砖、装饰瓷砖等。 主权项 权利要求书 1.一种可在陶瓷制品的釉面上形成自然浮雕的陶瓷釉，其特征在于，含有按以下重量百分比的组分：K2O：6.2～9.5％，Al2O3：9.6～18.7％，SiO2： 33.0～58.4％，CaO：14.2～30.1％，MgO：2.9～6.0％，P2O5：2.1～5.4％，以及杂质和釉烧温度下易分解或挥发成分，所述釉烧温度下易分解或挥发成分是CO2 和H2O中的一种或两种。 |
发布日期：2006-12-13 22:01:00