| 专利名称： | 制备超阻挡层体系的方法 |
| 公开（告）号： | CN1961093 |
| 公开（公告）日： | 2007-05-09 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | 200480041262.7 |
| 申请日： | 2004-11-23 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 弗劳恩霍弗实用研究促进协会 |
| (申请)专利权（人）： | C·沙尔东;M·法兰;M·克鲁格;N·希勒;S·施特拉赫 |
| 内容： | 摘要 本发明涉及通过用叠层真空涂覆基材以制备超阻挡层体系的方法，该叠层由修整层和透明陶瓷层以交替层体系形成，但在由溅射涂覆的两层透明陶瓷层之间至少具有一层修整层，在淀积修整层时，将单体引入运行有磁控管等离子体的抽真空的涂覆室中。 |
发布日期：2007-07-10 16:04:00