| 专利名称： | 用于涂敷金属的方法 |
| 公开（告）号： | CN1966770 |
| 公开（公告）日： | 2007-05-23 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | 200610149223.X |
| 申请日： | 2006-11-17 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 通用电气公司 |
| (申请)专利权（人）： | D·A·诺沃克;P·S·迪马斯乔;D·V·布茨 |
| 内容： | 摘要 本发明公开了用于涂敷金属基质(12)的方法、系统和由此制成的制品。在一个实施例中，涂敷金属基质(12)的方法包括：将金属粘合涂层(14)布置在金属基质(12)上，用反极性高频装置在大于或等于约2.5kHz的频率下产生离子，用离子将表面(18)粗糙化到大于或等于约5μm的后续平均表面粗糙度，并将陶瓷涂层(16)布置在金属粘合涂层表面(18)上。金属粘合涂层(14)具有初始平均表面粗糙度小于或等于约1μm的表面(18)。 |
发布日期：2007-07-10 21:38:00