| 专利名称： | 具有有纹理的内表面的处理室部件和制造方法 |
| 公开（告）号： | CN1293596 |
| 公开（公告）日： | |
| 申请（专利）号： | CN02807777.6 |
| 申请日： | 2002-06-24 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 应用材料公司 |
| (申请)专利权（人）： | 林士能;马克·D·孟席;乔·F·萨默斯;丹尼尔·欧文·克劳森;格伦·T·莫里;洛利塔·L·夏普 |
| 内容： | 摘要 用于等离子处理室的穹形围壁用具有平均粗糙度从约150到约450微英寸(约3.81-11.43微米)的粗糙化表面的介电材料制造。等离子喷涂陶瓷涂层被涂敷于介电材料的粗糙化表面。等离子喷涂涂层包括具有负平均偏度值粗糙度的有纹理的表面。当围壁用于等离子处理室时，在等离子处理室中形成的、由等离子体产生的溅射材料与有纹理的表面有良好的附着。 主权项 权利要求书 1.一种用于等离子处理室的部件，所述部件包括在介电材料上的陶瓷涂层，所述陶瓷涂层包括具有平均偏度粗糙度的有纹理的外露表面，所述有纹理的外露表面的所述平均偏度是小于-0.1的负值，由此，在等离子处理室中由等离子体产生的溅射材料可以附着在所述有纹理的外露表面上。 |
发布日期：2007-01-09 20:53:00