| 专利名称： | 快速制备高强度氮化硅-氮化硼可加工陶瓷的方法 |
| 公开（告）号： | CN1887797 |
| 公开（公告）日： | |
| 申请（专利）号： | 200610088995.7 |
| 申请日： | 2006-07-28 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 北京工业大学 |
| (申请)专利权（人）： | 李永利;张久兴;李瑞霞 |
| 内容： | 摘要 一种快速制备高强度氮化硅-氮化硼可加工陶瓷的方法，属于结构陶瓷制备技术领域。纳米BN包覆Si3N4颗粒表面后热压烧结制备Si3N4-BN可加工陶瓷工艺复杂冗长，制备效率低，成本高。本发明的特征在于：烧结添加剂Y2O3-Al2O3 与Si3N4、h-BN粉末球磨混合、干燥后，装入模具中，将装有物料的模具置于放电等离子烧结炉中，抽真空以150-250度/分钟的速度升温到1600-1700度，在30-50MPa的压力下烧结3-8分钟后随炉冷却，获得致密的Si3N4-BN复相陶瓷。该方法烧结时间短，烧结温度低，工艺过程简单快速，因而制备成本低；所得到的陶瓷材料同时具有高的弯曲强度和良好的可加工性。 主权项 |
发布日期：2007-01-09 21:42:00