| 专利名称： | 基板台及其制造方法以及等离子体处理装置 |
| 公开（告）号： | CN1294636 |
| 公开（公告）日： | |
| 申请（专利）号： | CN02810605.9 |
| 申请日： | 2002-05-24 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| (申请)专利权（人）： | 武藤慎司;田口千博;冈山信幸 |
| 内容： | 摘要 等离子体处理装置的基座(10)、即基板台的静电吸盘(12)通过 陶瓷喷涂形成。陶瓷喷涂层(12A)被甲基丙烯酸树脂(12D)进行封孔。通过使以甲基丙烯酸甲酯为主要成分的树脂原料液涂覆含浸在陶瓷喷涂层中并使其硬化，陶瓷喷涂层的陶瓷粒子之间的气孔被甲基丙烯酸树脂充填。由于甲基丙烯酸树脂原料液不在硬化时产生气孔，所以可以进行完全的封孔处理。 主权项 权利要求书 1.一种基板台，其特征在于，具备： 台本体；和 设置在所述台本体上的静电吸盘层，该静电吸盘层包括：其上载置有被处理体的上侧陶瓷层、下侧陶瓷层、配置在所述上侧陶瓷层和所述下侧陶瓷层之间的电极层； 所述上侧陶瓷层和所述下侧陶瓷层通过喷涂形成，所述上侧陶瓷层的所有气孔被甲基丙烯酸树脂进行封孔，封孔深度达到250μm。 |
发布日期：2007-01-10 20:24:00