| 专利名称： | 使用羟磷灰石层析除去高分子量聚集体 |
| 公开（告）号： | CN1898266 |
| 公开（公告）日： | |
| 申请（专利）号： | 200480038753.6 |
| 申请日： | 2004-10-06 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 惠氏公司 |
| (申请)专利权（人）： | S·孙;C·加洛;B·凯利 |
| 内容： | 摘要 本发明涉及羟磷灰石层析在从含有高分子量聚集体的制剂纯化至少一种抗体的应用。此外，本发明涉及陶瓷羟磷灰石层析整合到组合层析方案用于从抗体制剂除去高分子量聚集体。 主权项 |
发布日期：2007-01-21 22:36:00