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专利名称: 分离膜
公开(告)号: CN1929901
公开(公告)日: 2007-03-14 00:00:00
申请(专利)号: 200580008128.1
申请日: 2005-03-15 00:00:00
发明(设计)人: 株式会社物产纳米技术研究所
(申请)专利权(人): 相泽正信
内容: 摘要        本发明提供一种既具有高分离特性又能同时获得高透过速度的分离膜。本发明的分离膜具有主要成分由氧化铝组成的陶瓷烧结材料的多孔基体和在该多孔基体表面成膜的沸石薄膜,其中,上述多孔基体至少具有基层和在该基层表面形成的上述沸石薄膜的底层,上述底层的平均细孔径小于上述基层的平均细孔径。

发布日期:2007-05-06 17:30:00

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