| 专利名称： | 一种高折射率日用陶瓷釉及其制作工艺 |
| 公开（告）号： | CN101659517 |
| 公开（公告）日： | 2010-03-03 00:00:00 |
| 申请（专利）号： | CN200910192404.4 |
| 申请日： | 2009-09-17 00:00:00 |
| 发明（设计）人： | 广东顺祥陶瓷有限公司 |
| (申请)专利权（人）： | 林伟河 |
| 内容： | 本发明涉及一种高折射率日用陶瓷釉及其制作工艺，属于陶瓷制造领域。一种高折射率日用陶瓷釉的原料配比，其原料组成重量百分比为：钾长石 36-38％，高岭土10-12％，碳酸钡4.5-5.5％，碳酸锶2.6-2.8％，碳酸镧1.2-1.4％，碳酸锂1.6-1.8％，氧化锌5.5-6.5％和石英34-36％。按照原料配比通过配料、球磨、除铁、过筛、陈腐等步骤制成高折射率日用陶瓷釉。采用高折射率日用陶瓷釉及其制作工艺，釉料烧成范围宽，不受烧成气氛影响，烧制出的瓷器，色泽艳丽，柔润，釉层光泽度高达108，大大提高日用陶瓷产品的质量和档次。 |
发布日期：2010-03-03 01:12:00